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解決方案

大族激光多年來注重產(chǎn)品研發(fā)、科技創(chuàng)新投入與沉淀，緊隨高質(zhì)量發(fā)展的推進(jìn)步伐，打破關(guān)鍵核心技術(shù)壁壘；并基于自身產(chǎn)品獨(dú)特優(yōu)勢(shì)，不斷豐富全場(chǎng)景解決方案，賦能全球多個(gè)市場(chǎng)千行百業(yè)終端應(yīng)用實(shí)例。

刷片清洗機(jī) SC12-XC4S001A

產(chǎn)品特點(diǎn) 1. 清洗機(jī)可以提供持續(xù)穩(wěn)定的液體壓力輸出，以保證工藝效果和產(chǎn)能；
2. 在不損傷圖形的前提下，提供較強(qiáng)的兆聲波能量，加速液體分子沖擊；
力，以去除深孔、深溝槽內(nèi)的污染物；
3. 液體流量、壓力以及溫度等參數(shù)控制的穩(wěn)定性，為產(chǎn)品的一致性提供了有力支撐。

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產(chǎn)品應(yīng)用

應(yīng)用范圍：

化合物半導(dǎo)體、功率器件、MEMS、先進(jìn)封裝、射頻集成電路、MircoLED，光學(xué)玻璃

產(chǎn)品參數(shù)

片盒數(shù)量	2CS&2LP
配置	4 cleaning unit
wafer 類型	圓片，方片
wafer 尺寸（mm）	50-300
產(chǎn)能（WPH）	120（正面）
化學(xué)藥液	IPA、弱酸堿、DIW
襯底材料	Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4
適用工藝	Pre/Post clean
干燥模式	Spin Dry+N2 Dry

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解決方案

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